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Weak topological insulators induced by the interlayer coupling: A first-principles study of stacked Bi2TeI

机译:层间耦合诱导的弱拓扑绝缘体:堆叠Bi 2 TeI的第一性原理研究

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摘要

Based on first-principles calculations, we predict Bi2TeI, a stoichiometric compound that is synthesized, to be a weak topological insulator (TI) in layered subvalent bismuth telluroiodides. Within a bulk energy gap of 80 meV, two Dirac-cone-like topological surface states exist on the side surface perpendicular to the BiTeI layer plane. These Dirac cones are relatively isotropic due to the strong interlayer coupling, distinguished from those of previously reported weak TI candidates. Moreover, with chemically stable cladding layers, the BiTeI-Bi-2-BiTeI sandwiched structure is a robust quantum spin Hall system, which can be obtained by simply cleaving the bulk Bi2TeI.
机译:基于第一性原理计算,我们预测Bi2TeI(一种合成的化学计量化合物)在层状亚价碲化铋中是弱拓扑绝缘体(TI)。在80 meV的体能隙内,在垂直于BiTeI层平面的侧面上存在两个类似于狄拉克锥的拓扑表面态。这些Dirac锥体由于层间耦合强而相对各向同性,与先前报道的弱TI候选者不同。此外,BiTeI-Bi-2-BiTeI夹层结构具有化学稳定的包覆层,是一种坚固的量子自旋霍尔系统,可以通过简单裂解本体Bi2TeI来获得。

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